中国科学院兰州化学物理研究所

专利

专利名称：	薄膜沉积用基体温度控制装置（K）
专利类别：	发明专利
第一发明人：	高晓明
其他发明人：	刘维民；孙嘉奕；翁立军；胡明；伏彦龙；杨军
申请号：	201010004377.6
专利号：	ZL201010004377.6
申请日期：	2010-12-23
专利授权日期：	2014-08-20
国外申请方式：
国外申请日期：
国外授权日期：
专利证书号：
专利摘要：
实施情况：
其他备注：

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