专利
专利名称: 一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法
专利类别: 发明授权
第一发明人: 张斌; 张俊彦; 高凯雄; 强力; 王健
其他发明人:
申 请 号: 201510705271.1
专 利 号:
申请日期: 2015年10月27日
专利授权日期: 2019年3月1日
国外申请方式:
国外申请日期:
国外授权日期:
专利证书号:
专利摘要:
实施情况:
其他备注:
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