2025年5月4日 星期日
专利
专利名称: 一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法
专利类别: 发明授权
第一发明人: 张斌; 张俊彦; 高凯雄; 强力; 王健
申 请 号: 201510705271.1
申请日期: 2015年10月27日
专利授权日期: 2019年3月1日
未经中国科学院兰州化学物理研究所书面特别授权,请勿转载或建立镜像,违者依法必究