时间：4月16日（Mon）10:00 

    地点：理化楼三楼会议室 

　　摘要：电催化过程主要发生在电催化剂的表面。因此，在催化剂设计中，针对电催化剂的表面设计与调控至关重要。那么，什么样的表面对电催化性能较为有利呢？早期的大量研究表明，电催化剂的表面缺陷，包括杂质缺陷、空位缺陷、填隙缺陷等，对电催化性能的提高具有正效应。事实上，多数催化剂晶体在制备过程中都不可避免地引入各种类型的缺陷。但是，如何可控的产生缺陷、调控缺陷类型、控制缺陷浓度还需要深入系统的研究。与此同时，缺陷与性能之间的构效关系也需要进一步的梳理。因此，围绕缺陷化学，对电催化剂进行表面调控具有非常大的研究空间。报告将介绍近年来，我们课题组在催化剂表面调控,尤其是缺陷化学方面取得的进展。 

　　简介：

王双印,现为湖南大学化学化工学院教授，博士生导师。2006年本科毕业于浙江大学化工系，2010年在新加坡南洋理工大学获得博士学位，随后在美国凯斯西储大学，德克萨斯大学奥斯汀分校、英国曼彻斯特大学（玛丽居里学者）开展研究工作。主要研究方向为电催化剂的表面调控。目前，已在国际著名期刊JACS, Angew. Chem，Advanced Materials，EES，ACS Nano等发表学术论文100余篇，SCI总引用5800余次，h-index为37。