摘要: 通过磁控反应溅射方法制备MoS_x-TiN复合薄膜，研究添加少量TiN对MoS₂基薄膜结构和性能的影响。薄膜的结构和性能通过X射线光电子能谱仪（XPS）、X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）及UMT-2多功能微摩擦磨损试验机等进行了表征。结果表明：与纯MoS₂薄膜相比，少量TiN的添加使得MoS_x-TiN复合薄膜（002）晶面择优取向且结构致密。与纯MoS₂和MoS₂-Ti薄膜相比，MoS_x-TiN复合薄膜在潮湿大气条件下具有更优异的摩擦磨损性能，更低的摩擦系数。

关键词: MoS₂；TiN；磁控反应溅射；摩擦磨损性能

作者 单位

李倩倩 1.上海交通大学 材料科学与工程学院，上海 200240； 2.纳米技术及应用国家工程研究中心，上海 200241 

尹桂林 纳米技术及应用国家工程研究中心，上海 200241　 

郑慈航 上海交通大学 材料科学与工程学院，上海 200240　 

余震 上海交通大学 材料科学与工程学院，上海 200240　 

何丹农 1.上海交通大学 材料科学与工程学院，上海 200240； 2.纳米技术及应用国家工程研究中心，上海 200241 

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《摩擦学学报》,2011,31(1):40~44