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MPIIID制备TiAlN涂层的高温抗氧化及摩擦性能
2011-04-15 | 【】【打印】【关闭】                

摘要: 采用多源等离子体注入与沉积(MPIIID)装置制备了不同Al含量的TiAlN涂层,利用X射线能谱仪(EDX)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、纳米探针和摩擦试验对涂层的组成以及高温抗氧化和摩擦性能进行分析。结果表明:Al元素的加入明显提高了涂层的高温抗氧化能力,生成的Al2O3能有效地抑制氧的扩散;当Al的质量百分数为6.18%时,涂层硬度最高,约为38GPa,涂层具有良好的摩擦磨损特性。

关键词: 多源等离子体注入与沉积;TiAlN涂层;氧化;摩擦;

作者 单位

解志文 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001  

王浪平 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001  

王小峰 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001  

闫久春 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001  

黄磊 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001  

陆洋 哈尔滨工业大学 现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨 150001 

E-mail: aplpwang@hit.edu.cn

《摩擦学学报》,2011,31(2):175~180

来源:
评 论
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