摘要: 通过磁控溅射沉积过程中,硅靶表面中毒制备表面微量硅掺杂类金刚石薄膜,并改变沉积偏压制备出不同结构及性能的含硅类金刚石薄膜.利用XPS、拉曼光谱仪、SEM、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机等手段表征含硅类金刚石薄膜的结构、横截面形貌、力学性能及摩擦学性能.结果表明:偏压为-600 V下沉积Si-DLC薄膜具有致密结构,高结合力,高硬度的特性,在大气环境下,薄膜与Al₂O₃陶瓷球对摩表现出优良的摩擦学性能,摩擦系数与磨损率分别为0.018和1.60×10^-16m³/(N·m).

关键词: 偏压；磁控溅射；Si-DLC；摩擦学性能

作者单位

杨保平 兰州理工大学石油化工学院,甘肃兰州 730050　 

郑愉 1. 兰州理工大学石油化工学院,甘肃兰州 730050； 2. 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州 730000　 

张斌 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州 730000　 

张俊彦 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州 730000 

E-mail:zhangjunyan@licp.cas.cn

《摩擦学学报》,2012,32(6):634~640